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888真人官网 爲你介紹真空鍍膜機磁控濺射鍍膜方法與特點

來源:www.jzgclsjn.com發表時間:2018-06-28

真空鍍膜機在輝光放電中,離子轟擊陰極産生二次電子,電子在陰極位降區的電場作用下被加速與氣體分子碰撞,使氣體分子電離維持放電,由于電子在電場加速的軌迹是直線,所以碰撞電離幾率不高,氣體的壓強通常在2~10Pa的條件下進行濺射沈積,在低于2Pa時,輝光熄滅。但是,如果在與電場垂直的方向施加一磁場,電子在正交電磁場中的運動軌迹則爲既與電場垂直又與磁場垂直的擺線。在實際的磁控條件下,從冷陰極發射出來的電子具有初始能量,並且陰極暗區的電場和磁場都是不均勻的,所以,從陰極發射出的電子的運動軌迹不是嚴格的擺線形,一般稱做近似擺線運動。
磁控濺射靶是磁控建設鍍膜的源,它必須滿足兩個條件:一是具有正交的電磁場;二是磁場方向要與陰極靶表面平行,並形鹹閉合的環形水平磁場。
從陰極靶表面發射出來的電子,在陰極暗區被加速獲得能量,由于陰極靶表面有水平磁場存在,它們不能直接飛向陽極,而是在環形水平磁場束縛下形成的等離子環中,按近似擺線運動軌迹前進,電子的運動軌迹被加長了,從而提高了電子與氣體分子的碰撞幾率。電子的每一次碰撞都會損失一部分能量,而且電子只有通過能量交換才能逃出磁場的束縛,電子在能量完全交換之前,大約要飛行100m,碰撞頻率爲107次/s,這就使氣體的離化率和陰極靶所能得勁的禽子流密度大幅度提高,從而獲得高的濺射速率。

  

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