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真空鍍膜設備廠家爲你介紹真空鍍膜設備離子鍍的類型及特點

來源:www.jzgclsjn.com發表時間:2018-07-31

離子鍍是結合真空蒸鍍和濺射鍍兩種技術而發展起來的沈積技術。在真空條件下,采用適當的方式使鍍膜材料蒸發,利用氣體放電使工作氣體和被蒸發物質部分電離,在氣體離子和被蒸發物質離子的轟擊下,蒸發物質或其反應産物在基體上沈積成膜。離子鍍的基本過程包括鍍膜材料的蒸發、離子化、離子加速、離子轟擊工件表面成膜。根據鍍膜材料不同的蒸發方式和氣體的離化方式,構成了不同類型的離子鍍,下表是幾種主要的離子鍍。離子鍍具有鍍層與基體附著性能好、繞射性能好、可鍍材質廣、沈積速率快等優點。
表離子鍍的種類及其特點
種類蒸發源離化方法工作環境特點用途
直流放電法 電阻 輝光放電dc:0.1kv~5kv 惰性氣體1pa,0.25ma/cm2 結構簡單,膜層結合力強,但鍍件溫升高,分散性差!耐熱,潤滑等鍍件
弧光放電法 電子束、燈絲 弧光放電dc:100v高真空1.33x10-4pa 離化率高,易制成反應膜,可在高真空下成膜,利于提高質量 切削工具、金屬裝飾等鍍件
空心陰極法 空心陰極 等離子體電子束dc:0v~200v惰性氣體或反應氣體 離化率高,蒸發速度大,易獲得高純度膜層 裝飾、耐磨等鍍件
調頻激勵法 電阻、電子束 射頻電場13.56mhzdc:0.1kv~5kv惰性氣體或反應氣體 離化率高,膜層結合力強,鍍件溫升低,但分散性差 光學、半導體等鍍件
電場蒸發法 電子束 二次電子dc:1kv~5kv真空 不純氣體少,能形成較好的膜 電子元件
多陰極法  電阻、電子束熱電子dc:0v~5kv惰性氣體或反應氣體低速電子離化效果好 裝飾、電子、精密機械等零件
聚焦離子束法電阻聚集離子束dc:0v~5kv惰性氣體 因離子聚束,膜層結合力強 電子元件
活性反應法電子束二次電子dc:200v反應氣體o2、n2、ch4、c2h4等 金屬與反應氣體組合能制備多種傾倒物膜層電子、裝飾、耐磨等鍍件。

  

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