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888真人官网 爲你介紹靶管內真空鍍膜技術和鍍膜設備

來源:www.jzgclsjn.com發表時間:2018-09-05

 管內鍍膜設備及鍍膜技術,屬于特殊薄膜制備技術領域。采用磁控滅射鍍膜技術,以被鍍管的管壁爲真空腔的側壁,兩端進行真空密封,並設置排氣口和充氣管道。放電陰極爲圓柱狀,與被鍍管同軸設置,其內部水冷,但不在其中設置磁體,陰極外表面設置圓柱靶材,與陰極緊配合,或者陰極外表面直接作爲靶材。磁體設置在被鍍管的外部,即處于大氣中。本發明所涉及的設備簡單,成本低,適合各類內徑大于50mm的管內鍍膜,可大規模推廣應用。
  1.管內鍍膜設備及鍍膜技術,其特征在于:采用磁控濺射鍍膜技術,以被鍍管的管壁爲真空腔的側壁,兩端進行真空密封,並設置排氣口和充氣管道;放電陰極爲圓柱狀,與被鍍管同軸設置,其內部水冷,但不在其中設置磁體,陰極外表面設置圓柱靶材,與陰極緊配合,或者陰極外表面直接作爲靶材;磁體設置在被鍍管的外部,即處于大氣中。
  2.根據權利要求1所述的管內鍍膜設備及鍍膜技術,其特征在于:所述的磁體爲空心圓柱結構,與被鍍管同軸設置,産生軸向磁場,鍍膜過程中磁體沿軸向移動。
  3.根據權利要求1所述的管內鍍膜設備及鍍膜技術,其特征在于:所述的磁體爲長跑道形結構,磁體長度與被鍍管長度相當,除兩端外,産生基本與軸向垂直的磁場,鍍膜過程中,磁體整體繞被鍍管旋轉,旋轉軸與被鍍管中心軸線相同。
  4.根據權利要求1、2和3所述的管內鍍膜設備及鍍膜技術,其特征在于:如果被鍍管爲沒有磁性的金屬管,則被鍍管爲陽極。
  5.如果被鍍管爲絕緣管,則被鍍管內與軸向平行設置細杆狀或細管狀金屬陽極1根或多根。
  6.根據權利要求4所述的管內鍍膜設備及鍍膜技術,其特征在于:所述的細管狀金屬陽極可同時作爲充氣管道,不再另外設置充氣管道;在細管狀陽極側壁上開進氣孔。
  7.根據權利要求1、2所述的管內鍍膜設備及鍍膜技術,其特征在于:采用直流磁控濺射、射頻磁控濺射或脈沖磁控濺射在被鍍管內壁上沈積薄膜,改變空心圓柱形磁體的半徑,調整陰極表面附近磁場強度;沈積過程中,磁體沿軸線移動,放電區域也跟著移動,薄膜被均勻鍍制在被鍍管的內表面上。
  8.根據權利要求1、3所述的管內鍍膜設備及鍍膜技術,其特征在于:采用直流磁控濺射、射頻磁控濺射或脈沖磁控濺射在被鍍管內壁上沈積薄膜,調整磁體與被鍍管外表面的間距,使得橫向磁場最強處位于陰極表面附近;沈積過程中,磁體繞被鍍管勻速旋轉,放電區域也跟著旋轉,薄膜被均勻鍍制在被鍍管的內表面上。

  

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