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多功能真空鍍膜設備是怎麽構成的?

來源:www.jzgclsjn.com發表時間:2018-09-27

多功能真空鍍膜機是磁控濺射、多弧離子、蒸騰鍍膜的混合性設備,是在多弧離子鍍膜機的基礎上裝備圓柱靶或平面磁控靶,設備具有離子鍍的高離化率、高堆積速度的特色,一起也具有磁控濺射低溫、安穩的長處,合適鍍各種複合膜。

多功能真空鍍膜機--磁控、中頻、多弧離子鍍膜具體介紹:

①蒸騰與磁控濺射的混合設備:
  多功能,合適量産,適應性強。

②磁控濺射與多弧離子鍍的混合運用:
  多弧能夠進步炮擊清洗質量,添加薄膜與基材結合力。與磁控濺射一起作業可鍍制複合膜(高能離子源清洗活化,成膜速度快)。

③多對中頻磁控濺射靶與柱弧離子鍍的混合運用:
  中頻靶更安穩(如Al),離化率高、堆積速率快、成膜均勻。
  中頻反應濺射如鍍制Si02、TiO2,一起鍍多層不一樣原料簿膜。

④射頻、直流、中頻、柱弧的混合運用:
  射頻能夠直接鍍制絕緣保護膜如SiO2/Ag/SiO2

⑤圓柱弧、中頻、多弧的混合運用:  
  柱弧確保高離化率的一起,削減大顆粒堆積的份額,到達有好的結合力又有較好表面光潔度的作用。


  

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