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真空鍍膜設備薄膜的均勻性

來源:www.jzgclsjn.com發表時間:2019-07-03

真空鍍膜設備薄膜均勻性上有什麽樣的一個概念,下面的內容我們就來幫助您的使用學習。
  1.厚度上的均勻性,也可以理解爲粗糙度,在光學薄膜的尺度上看,真空鍍膜的均勻性已經相當好,可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10範圍內,也就是說對于薄膜的光學特性來說,真空鍍膜沒有。但是如果是指原子層尺度上的均勻度,也就是說要實現10A甚至1A的表面平整,具體控制因素下面會根據不同鍍膜給出詳細解釋。
  2.化學組分上的均勻性:就是說在薄膜中,化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的産生不均勻特性,SiTiO3薄膜,如果鍍膜過程不科學,那麽實際表面的組分並不是SiTiO3,而可能是其他的比例,鍍的膜並非是想要的膜的化學成分,這也是真空鍍膜的技術含量所在。具體因素也在下面給出。
  3.晶格有序度的均勻性:這決定了薄膜是單晶,多晶,非晶,是真空鍍膜技術中的熱點問題,具體見下。
  主要分類有兩個大種類:蒸發沈積鍍膜和濺射沈積鍍膜,具體則包括很多種類,包括真空離子蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,溶膠凝膠法等等。
  一、對于蒸發鍍膜:
  一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。
  厚度均勻性主要取決于:
  1、基片材料與靶材的晶格匹配程度
  2、基片表面溫度
  3.蒸發功率,速率
  4.真空度
  5.鍍膜時間,厚度大小。
  蒸發鍍膜組分均勻性不是很容易保證,具體可以調控的因素同上,但是由于原理所限,對于非單一組分鍍膜,蒸發鍍膜的組分均勻性不好。
  1、晶格匹配度
  2、基片溫度
  3、蒸發速率
  濺射鍍膜又分爲很多種,總體看,與蒸發鍍膜的不同點在于濺射速率將成爲主要參數之

  

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