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真空鍍膜設備離子鍍膜上的創新方法

來源:www.jzgclsjn.com發表時間:2017-04-11

 真空鍍膜設備多弧離子鍍膜上的創新方法,所謂多弧離子鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于室內,真空鍍膜機多弧離子鍍膜采用一定方法加熱待鍍材料,使之蒸發或升華,並飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。
 多弧離子鍍膜的方法,在條件下成膜有很多優點,可減少蒸發材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞,減少氣體中的活性分子和蒸發源材料間的化學反應(如氧化等),以及減少成膜過程中氣體分子進入薄膜中成爲雜質的量,從而提供膜層的致密度、純度、沈積速率和與基板的附著力。
 真空鍍膜設備多弧離子鍍膜工藝不僅避免了傳統表面處理的不足,且各項技術指標都優于傳統工藝,在五金、機械、化工、模具、電子、儀器等領域有廣泛應用。催化液和傳統處理工藝相比,在技術上有哪些創新?
 1、多弧離子鍍膜不用電、降低了成本、成本僅爲多弧離子鍍膜鎳的二分之一,真空鍍膜機多弧離子鍍膜鉻的三分之一,不鏽鋼的四分之一,可反複利用,大大降低了成本。
 2、多弧離子鍍膜易操作、工藝簡單、把金屬基件浸入兌好的液體中“一泡即成”,需要再加工時不經任何處理。
 3、多弧離子鍍膜無汙染,無毒無味,無三廢排放,屬國家環保産品技術。
 4、多弧離子鍍膜好處理、使用方便;形狀複雜的金屬基件都能處理。
 5、多弧離子鍍膜硬度大,硬度增強、催化液泡過的金屬基件硬度是多弧離子鍍膜工藝的幾倍。
 6、多弧離子鍍膜不會生鏽,催化液浸泡過的金屬基件已滲透表皮裏面,不起皮、不脫落。

  

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