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888真人官网 爲你介紹真空鍍膜史話

來源:www.jzgclsjn.com發表時間:2017-06-02

真空鍍膜方法的不斷改進開創了真空技術在薄膜領域應用的新篇章.薄膜技術在60年代的蓬勃發展也對真空技術的發展起到了極大的推動作用.我們在美國真空鍍膜學會網上看到這份介紹真空鍍膜史話的資料,現在將其編譯出來供我國真空科技工作者參考.這篇編譯稿以確切的資料信息介紹了在這個領域內作出了貢獻的科學家的名字,這是值得後人永遠懷念的科學家群體.他們的成就也將爲真空界的後來人所敬仰.唯一感到遺憾的是沒有查明這些科學家的國藉.只在每項成果後面的括號中列舉了主要的發明人或單位的名字。我國的真空鍍膜史也有待于我國的同行自己整理和編寫.這一講涉及到的內容十分豐富,我們將和大家一起共同感受真空鍍膜的應用快速發展的腳步聲。
119世紀
真空鍍膜已有200年的曆史。在19世紀可以說一直是處于探索和預研階段。探索者的艱辛在此期間得到充分體現。1805年,開始研究接觸角與表面能的關系(Young)。1817年,透鏡上形成減反射膜(Fraunhofer)。1839年,開始研究電弧蒸發(Hare)。1852年,開始研究真空濺射鍍膜(Grove;Pulker)。1857年,在氮氣中蒸發金屬絲形成薄膜(Faraday;Conn)。1874年,報道制成等離子體聚合物(Dewilde;Thenard)。1877年,薄膜的真空濺射沈積研究成功(Wright)。1880年,碳氫化合物氣相熱解(Sawyer;Mann)。1887年,薄膜的真空蒸發(坩埚)(Nahrwold;Pohl;Pringsheim)。1896年,開始研制形成減反射膜的化學工藝。1897年,研究成功四氯化鎢的氫還原法(CVD);膜厚的光學幹涉測量法(Wiener)。
220世紀的前50年
1904年,圓筒上濺射鍍銀獲得專利(Edison)。1907年,開始研究真空反應蒸發技術(Soddy)。1913年,吸附等溫線的研究(Langmuir,Knudsen,Knacke等)。1917年,玻璃棒上濺射沈積薄膜電阻。1920年,濺射理論的研究(Guntherschulzer)。1928年,鎢絲的真空蒸發(Ritsehl,Cartwright等)。1930年,真空氣相蒸發形成超微粒子(Pfund)。1934年,半透明玻璃紙上金的卷繞鍍(Kurz,Whiley);薄膜沈積用的玻璃的等離子體清洗(Bauer,Strong)。1935年,金屬紙電容器用的Cd:Mg和Zn的真空蒸發卷繞鍍膜研究成功(Bausch,Mansbridge);帕洛馬100英寸望遠鏡鏡面鍍鋁(Strong);光學透鏡上鍍制單層減反射膜(Strong,Smakula);金屬膜生長形態的研究(Andrade,Matindale)。1937年,使用鉛反射器的密封光束頭研制成功(Wright);真空卷繞蒸發鍍膜研制成功(Whiley);磁控增強濺射鍍膜研制成功(Penning)。1938年,離子轟擊表面後蒸發取得專利(Berghaus)。1939年,雙層減反射膜鍍制成功(Cartwright,Turner)。1941年,真空鍍鋁網制成雷達用的金屬箔。1942年,三層減反射膜的鍍制(Geffcken);同位素分離用的金屬離子源研制成功。1944年,玻璃的電子清洗研制成功(Rice,Dimmick)。1945年,多層光學濾波器研制成功(Banning,Hoffman)。1946年,用X射線法吸收法測量薄膜的厚度(Friedman,Birks);英國Goodfellow公司成立。1947年,200英寸望遠鏡鏡面鍍鋁成功。1948年,美國國家光學實驗室(OCLI)建立;沈積粒子的真空快速蒸發(Harris,Siegel);用光透過率來控制薄膜的厚度(Dufour)。1949年,非金屬膜生長形態的研究(Schulz)。1950年,濺射理論開始建立(Wehner);半導體工業開始起步;各種微電子工業開始起步;冷光鏡研制成功(Turner,Hoffman,Schroder);塑料裝飾膜開始出現(holland等)。

  

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