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真空鍍膜設備廠家爲你介紹基本流程

來源:www.jzgclsjn.com發表時間:2017-11-16

用真空鍍膜設備鍍鋁膜,基本工藝流程爲:預真空─離子清洗─鍍鋁─離子轟擊─鍍保護膜─放氣。預真空對鍍膜室抽真空至5×10,2Pa時,充入氩氣430mL,利用2個適當的電極間的低壓輝光放電産生的離子轟擊達到清洗和輔助預熱鍍膜基底的作用,轟擊時間爲150s;鍍鋁部分蒸發器快速升至高溫,鋁絲從預熱、熔化、蒸發鍍鋁到鍍鋁完成的時間爲30s多;采用二次離子轟擊,去除膜表面粒狀顆粒,使膜層更加致密,轟擊時間爲80s;鍍保護膜時間爲(200±50)s,真空度爲3×10?2Pa,由充入的矽油流量加少量氩氣來控制真空度,矽油流量由調節閥控制,直至放氣結束。
檢驗包裝由于鍍鋁膜容易被劃傷或碰傷,按鍍鋁基本性能要求檢驗合格後,其包裝應對鍍鋁件起到有效的防護作用,裝箱時應避免産品之間的摩擦碰傷。采用兩層塑料袋包裝,內層一定要薄(一般爲0.005mm厚)而柔軟並且緊貼塑件,外層用泡泡塑料口袋包裝,每層之間用紙板隔開,以減少互相碰傷的機率。

  

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