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高真空多層光學鍍膜機系列



BLLVAC-1500F繼承高性能、高産量的特點與以往機型相比實現了更高的性價比,節電50%。

常規配置

真空系統

低真空泵:2X-70(選擇:進口SV300,E2M17/275)

增壓泵:ZJP600(選擇:進口WAU2001,EH1200/EH2600)

高真空泵:渦輪分子泵(選擇:低溫泵,擴散泵或進口磁懸浮)

真空閥系統

-型號40,50,150,550

真空室加熱系統

-最高溫度:0到400℃

-型號:不鏽鋼管裝加熱器(選擇:鹵素燈管)

基片架盤型號:

-球面型(選擇:平面型,3公自轉,多行星型)

-轉速:0到30轉數/分

軟啓,軟停,可調速

電器控制系統:

-觸膜屏面板和PLC控制

-可修改和改變重要的參數

-全程自動控制鍍膜以達到最終産品所需要求

VAC系統

-進口低高真空感應器:1

MFC系統

-進口質量流量控制器:1

-進口電磁閥:1

APC系統

-進口質量流量控制器:1

-進口電磁閥:1

鍍膜沈積控制系統

-晶控控制:美國産IC-6,

XTC-3S/M,INFICON310。

-石英晶體感應器:1,2,6頭

光控控制

-國産光控(或英國inteiiemetrics)

離子源

-霍兒源(或考夫曼,RF源)

電子束源

-容量:15cc,25cc,40cc等等

-偏轉角度:180°或270°

-坩埚:4,6,8,12,16,2+1,6+1個等

深冷系統

-真空室麥斯納阱

-擴散泵冷阱

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